Новости за день

Главная интрига ближайших суток — будут анонсированы новые планшеты компании Apple или нет? Если опираться на мнение тайваньских источников, озвученное на страницах сайта DigiTimes, очередные планшеты Apple поступят в продажу не раньше начала следующего года. На эту мысль наводят слухи, что компания TSMC находится в стадии получения заказа на выпуск таких версий процессоров Apple A8 для планшетов, как SoC Apple A8X. Как и модели A8, сборки A8X будут опираться на 20-нм техпроцесс. В принципе, если все свободные 20-нм линии TSMC загружены выпуском процессоров A8 для смартфонов iPhone 6, для выпуска планшетных модификаций SoC банально может не хватить производственных ресурсов. Анонс новинок Apple начнётся сегодня в 9 часов вечера по Москве. Так что завтра утром мы будем точно знать, как обстоят дела с новыми планшетами компании.

Также источник сообщает, что выручка TSMC от выпуска 20-нм решений достигла уровня 10 % от совокупной квартальной выручки этого тайваньского контрактника. В четвёртом квартале уровень выручки от производства 20-нм полупроводников увеличится до 20 %, а в 2015 году — до 30 %. Дальнейшего роста, судя по всему, не будет, поскольку TSMC быстро переключится на выпуск 16-нм полупроводников.

На отчётной квартальной конференции финансовый директор компании Intel, Стейси Смит (Stacy Smith), сообщил, что с текущего квартала заметно увеличивается финансирование разработок, связанных с переходом на 10-нм техпроцесс. Обширное финансирование приведёт к тому, что в течение двух последующих лет компания создаст условия для запуска массового производства процессоров с нормами 10 нм. Тем самым можно рассчитывать, что это произойдёт ближе к концу 2016 года. При этом необходимо напомнить, что с переходом на 14-нм техпроцесс возникли сложности, которые примерно на год отсрочили массовый выпуск процессоров поколения Broadwell. Поэтому нет никакой гарантии, что с 10-нм техпроцессом не возникнет нечто похожее.

Ранее в сентябре компания показала полупроводниковую пластину с 10-нм микросхемами. Никаких деталей при этом не сообщалось. Есть только два известных факта. Во-первых, 10-нм техпроцесс Intel будет опираться на FinFET транзисторы. Во-вторых, для обработки пластин будет использоваться современное оборудование со 193-нм сканерами, а не 13-нм EUV. Тем самым Intel убережёт себя от проблем с «выгорающими» от жёсткого ультрафиолетового излучения фотошаблонами, от нестабильности показателей фоторезиста и других трудностей. Иными словами, она предпочитает пройтись по знакомым «граблям», а не набивать шишки новыми. В итоге Intel обещает первой привести мир к 10-нм техпроцессу, как это произошло в случае освоения 14-нм технологических норм.

Ниже мы сообщили о планах двух производителей полупроводников — компаний Intel и TSMC. Первая говорит о намерении ввести в конце 2016 года в строй 10-нм техпроцесс, а вторая освоила 20-нм производство и собирается в следующем году начать выпуск 16-нм продукции. Выпуск 10-нм решений компания TSMC также рассчитывает организовать до конца 2016 года, но будет идти к нему, по всей видимости, за счёт перехода на EUV-литографию. Планы интересные, но теперь послушаем «начальника транспортного цеха», без которого им не суждено воплотиться в жизнь. За выпуск EUV-сканеров отвечает голландская компания ASML. На днях производитель оборудования отчитался о работе в третьем квартале календарного 2014 года. Среди прочей информации прозвучали заявления, касающиеся выпуска EUV-оборудования.

Итак, в течение 2014 года компания поставила и поставит пять сканеров NXE:3300 (одна машина поставлена в прошлом году и одна запланирована к поставкам в 2015 году). Изначально мощности источника EUV-излучения сканеров NXE:3300 хватает на обработку 200 300-мм пластин в течение 24 часов. До конца года предусмотрена модернизация источника излучения на уже проданных сканерах до 80-ваттного уровня, что повысит производительность до 500 пластин в сутки. Отметим, порог коммерческого уровня производства — это 1500 пластин в сутки, и он будет преодолён в 2016 году. Два клиента компании ASML, одним из которых является компания IBM, на практике сумели доказать надёжность сканера NXE:3300 в режиме обработки свыше 500 пластин в сутки.

С середины следующего года начнётся поставка новых сканеров — NXE:3350. Таковых заказано шесть штук. Ещё три машины появятся после модернизации уже развёрнутых на предприятиях клиентов сканеров NXE:3300 до уровня NXE:3350. Сканеры NXE:3350, уверяют в ASML, станут основой для последующего выпуска 10-нм полупроводников. На их основе клиенты компании смогут изучить новое оборудование и начать создавать соответствующую заводскую инфраструктуру. Первая пилотная линия для выпуска 10-нм решений с использованием EUV-проекции заработает в середине следующего года. Это позволит перейти к массовому выпуску 10-нм решений в конце 2016 года. Ещё раз подчеркнём, в исполнении ASML речь идёт о производстве 10-нм полупроводников с использованием 13-нм излучения, а не 193-нм, на котором в тот же техпроцесс собирается въехать компания Intel.